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采用循環(huán)伏安法和電化學(xué)阻抗譜,分析了六次甲基四胺對(duì)鋅電沉積過程的影響。循環(huán)伏安測(cè)試結(jié)果表明:六次甲基四胺的加入使得鋅的電沉積電位負(fù)移,說明六次甲基四胺在金屬基體活性位點(diǎn)的吸附,使得鋅電沉積的形核和生長(zhǎng)需要在更大的陰極過電位下發(fā)生。同時(shí)六次甲基四胺提高了電沉積鋅層在腐蝕介質(zhì)中的耐蝕性。
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采用循環(huán)伏安法和電化學(xué)阻抗譜,分析了六次甲基四胺對(duì)鋅電沉積過程的影響。循環(huán)伏安測(cè)試結(jié)果表明:六次甲基四胺的加入使得鋅的電沉積電位負(fù)移,說明六次甲基四胺在金屬基體活性位點(diǎn)的吸附,使得鋅電沉積的形核和生長(zhǎng)需要在更大的陰極過電位下發(fā)生。同時(shí)六次甲基四胺提高了電沉積鋅層在腐蝕介質(zhì)中的耐蝕性。
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